マスク膜製品

半導体製品に欠かせないマスク膜技術加工であります

基板（ガラス材）にクロム膜を施した製品になります

今回は少し大きめの6インチ（□152×152）へ加工を実施しました

あらゆるデザインに挑戦し半導体部品への橋渡しとなればと考えております

低膨張係数ガラス（ネオガラス）へのマスク膜加工を実施しました 

【　製作工程　】

*　ガラス基盤は弊社にて調達し平面加工（0.002以内）で仕上げます

*　クロム構想膜：ガラス材　Cr700

*　レジストは標準的なPosiレジストを塗布します

*　プロセスは選択を希望しますが、デザイン次第で当社で選択する事もございます

*　寸法測定：反射光測を実施します（検査表添付します）

*　パタ－ンの有効エリアは基材端面から片辺10㎜までとします

*　コーナ－ＲはＲ0.3～0.5μmを目安とします

*　最終納品は専用ケ－スまたはお客様指定のケ－スになります